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デュポン、韓国でフォトレジスト生産…328億ウォン投資申告書をKOTRAに提出

これから建設するんですか?建設するのは勝手ですが稼働出来るのかが問題でロケットや戦闘機開発や潜水艦等と同じで頓挫するのが目に見えてる。

さらに、最新技術も革新的技術も部品製造も出来ないのにフェイクニュースだろうね。日本からの革新的技術部品も輸出対象ですよ。

グローバル科学素材企業デュポンが半導体の核心素材「極端紫外線(EUV)用フォトレジスト」の生産工場を韓国に建設する。EUV用フォトレジストは、日本が昨年韓国への輸出を統制した3大品目の一つ。早ければ来年から国内での調達が可能になる見通しだ。日本への依存度が高い素材・部品・装備の調達の多角化に一歩近づいたという評価が出ている。

韓国産業通商資源部によると、デュポンはEUV用フォトレジスト生産工場を国内に構築するため大韓貿易投資振興公社(KOTRA)に投資申告書を提出した。8日(以下、現地時間)に成允模(ソン・ユンモ)産業部長官が米国でデュポンのジョン・ケンプ社長に会った席でだ。投資規模は2021年までに計2800万ドル(約328億ウォン、約30億円)。生産工場は天安(チョンアン)に建設される予定だ。

EUVフォトレジストは半導体超微細工程に使用される核心素材。半導体基板(ウェハー)の上にパターンを形成する工程に使われる材料で、波長が短く微細化工程に適している。JSR、信越化学工業、東京応化工業(TOK)など日本企業が世界市場の90%以上を占めている。このため日本に対する依存度が高かった。

国内でもフッ化クリプトン(KrF)、フッ化アルゴン(ArF)など他のフォトレジストは一部生産が可能だ。しかし波長がそれぞれ248ナノメートル(nm)、198nmと長く、EUV用(13.5nm)より微細工程に適していない。政府は昨年7月の日本の輸出規制以降、半導体素材・部品・装備の供給を安定化させるためデュポンと接触してきたと明らかにした。

国内産業にはプラスの効果が期待される。産業研究院のキム・ヤンペン専門委員は「半導体素材の供給が安定し、日本の輸出規制のような状況に対応できるようになった」とし「国内で調達することになれば、輸入より費用の面で有利であり、現在25-30%の半導体素材の国産化率も高めることができるだろう」と説明した。

デュポンとしては韓国の素材・部品・装備自立の動きをチャンスと見なし、新しい市場に参入することになった。ケンプ社長は投資申告書を提出する席で「今後、韓国国内の需要企業と製品実証テストを進めるなど、緊密に協力していく計画」と述べた。

産業部のカン・カムチャン半導体ディスプレー課長は「最近サムスン電子が従来の5ナノ半導体より微細な3ナノ半導体工程技術を確保するなど、EUVフォトレジストの重要性が高まっている」とし「サムスン電子、SKハイニックス、東部ハイテクなど国内企業が受恵者になるとみられる」と話した。

デュポンは半導体ウェハーを平坦化するのに使用されるCMPパッドも生産する予定だ。デュポンはCMP分野で世界市場シェア80%以上を確保していて、輸入代替だけでなくCMP生産に使用される国内原材料産業も強化できるという期待が高まっている。

政府はこのほか米国の投資家を対象に韓国投資誘致活動を進めている。成允模産業部長官は9日午前、米シリコンバレーで米国の素材・部品・装備、新産業、ベンチャーキャピタル分野の革新企業10社を招請してラウンドテーブル会議を開き、韓国投資協力案について議論した。ラムリサーチ、アプライドベンチャーズ(半導体装備)、リテルヒューズ(システム半導体)、エアープロダクツ、ゴア(水素経済)などの会社が参加した。

成長官は「最近日本政府がEUV用フォトレジスト輸出を(個別許可から)特定包括許可に転換したが、根本的な解決案とは見なしがたい」とし「政府は素材・部品・装備調達先多角化を継続して推進していく」と強調した。
デュポン、韓国でフォトレジスト生産…328億ウォン投資申告書をKOTRAに提出 デュポン、韓国でフォトレジスト生産…328億ウォン投資申告書をKOTRAに提出 Reviewed by RichKid on 1月 09, 2020 Rating: 5

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