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ウェハーと245ナノメートル用マスク基板が止まれば!韓国、半導体すべての生産が不可能に


日本のフォトレジスト管理でサムスンの未来の産業が影響言いでいたが、今回のホワイト国削除により今の産業までもが影響るとして愛国日報が言ぎ立てている。具体的には半導体生産に必須となるマスクが管理対象となるため、DRAMやNANDなどの現在の主力製品の生産が不可能になるそうだ。国産化も容易ではないらしい。

日本は先月からサムスン電子やSKハイニックスが次世代産業とするAP(アプリケーションプロセッサ)やLAIシステム半導体の生産に必要な193ナノメートル未満のフォトレジストを規制品目に含めた。今回は両社の現在の主要産業であるDRAMとNAND型フラッシュメモリーの生産に必須の245ナノメートル未満の光源用マスク装備と基板を規制する態勢だ。これを受け、半導体業界は“日本の規制が未来の産業に照準を合わせたとすれば、今回は現在の産業をターゲットにしたようだ”と懸念している。

日本が韓国をホワイト国から除外し。うち半導体生産と直接関連するのは大きく半導体装備、マスク装備、マスク、ウェハーの4品目。半導体装備はサムスン電子やSKハイニックスの場合、2、3年間の半導体輸出好況を迎えながら先行投資を進め、生産に支障がないほどの生産ラインを構築している。

しかしマスクは違う。マスクは半導体の微細回路を形象化するガラス基板で、日本の光学企業HOYAと信越化学がほぼ独占供給してきた。特に245ナノメートル未満の光源用マスク基板は14ナノメートルほどのDRAMやNAND型フラッシュメモリーの生産に必要となる。すなわち、日本が245ナノメートル用マスク基板の韓国輸出を難しくすれば、サムスン電子やSKハイニックスはDRAMやNAND型フラッシュメモリーの生産に支障が避けられなくなる。

国内企業関係者は“日本の規制が本格化する場合、フッ酸やフォトレジストとは違い代替や国産化が容易でない”と話した。

とにかくフォトマスクやマスクブランクスが止まればサムスンやSKハイニックスはすべての半導体生産が不可能になると考えておけばいい。
ウェハーと245ナノメートル用マスク基板が止まれば!韓国、半導体すべての生産が不可能に ウェハーと245ナノメートル用マスク基板が止まれば!韓国、半導体すべての生産が不可能に Reviewed by Admin_HeavytN on 8月 06, 2019 Rating: 5

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